Pulsed chemical vapor deposition of conformal GeSe for application as an OTS selector
نویسندگان
چکیده
منابع مشابه
Pulsed DC- Plasma Assisted Chemical Vapor Deposition of α-rich Nanostructured Tantalum Film: Synthesis and Characterization
This paper is an attempt to synthesize nanostructured tantalum films on medical grade AISI 316L stainless steel (SS) using pulsed DC plasma assisted chemical vapor deposition (PACVD). The impact of duty cycle (17-33%) and total pressure (3-10 torr) were studied using field emission scanning electron microscopy (FESEM), grazing incidence x-ray diffraction (GIXRD), nuclear reaction analysis (NRA)...
متن کاملan application of fuzzy logic for car insurance underwriting
در ایران بیمه خودرو سهم بزرگی در صنعت بیمه دارد. تعیین حق بیمه مناسب و عادلانه نیازمند طبقه بندی خریداران بیمه نامه براساس خطرات احتمالی آنها است. عوامل ریسکی فراوانی می تواند بر این قیمت گذاری تاثیر بگذارد. طبقه بندی و تعیین میزان تاثیر گذاری هر عامل ریسکی بر قیمت گذاری بیمه خودرو پیچیدگی خاصی دارد. در این پایان نامه سعی در ارائه راهی جدید برای طبقه بندی عوامل ریسکی با استفاده از اصول و روش ها...
an application of equilibrium model for crude oil tanker ships insurance futures in iran
با توجه به تحریم های بین المملی علیه صنعت بیمه ایران امکان استفاده از بازارهای بین المملی بیمه ای برای نفتکش های ایرانی وجود ندارد. از طرفی از آنجایی که یکی از نوآوری های اخیر استفاده از بازارهای مالی به منظور ریسک های فاجعه آمیز می باشد. از اینرو در این پایان نامه سعی شده است با استفاده از این نوآوری ها با طراحی اوراق اختیارات راهی نو جهت بیمه گردن نفت کش های ایرانی ارائه نمود. از آنجایی که بر...
Pulsed Metalorganic Chemical Vapor Deposition of High Quality AlN/GaN Superlattices for Intersubband Transitions
A pulsed metalorganic chemical vapor deposition (MOCVD) technique, specifically designed for high quality AlN/GaN superlattices (SLs) is introduced. Optical quality and precise controllability over layer thicknesses are investigated. Indium is shown to improve interface and surface quality. An AlN/GaN SL designed for intersubband transition at a telecommunication wavelength of ~1.5 μm, is grown...
متن کاملSpatially controllable chemical vapor deposition
Most conventional chemical vapor deposition (CVD) systems do not have the spatial actuation and sensing capabilities necessary to control deposition uniformity, or to intentionally induce nonuniform deposition patterns for single-wafer combinatorial CVD experiments. In an effort to address this limitation, a novel CVD reactor system has been developed that can explicitly control the spatial pro...
متن کاملذخیره در منابع من
با ذخیره ی این منبع در منابع من، دسترسی به آن را برای استفاده های بعدی آسان تر کنید
ژورنال
عنوان ژورنال: Materials Advances
سال: 2021
ISSN: 2633-5409
DOI: 10.1039/d0ma01014f